离开以后

作词 : 陈少琪
作曲 : 李偲菘
编曲 : David Garfield
制作人 : David Garfield
近日像每样话题总不适合你
近日夜深相聚
飘起一抹冷漠空气
在这天
是你事无大小多么生气
谁人亦可知你将别离
落寞地躺在睡床试试抱紧你
但是目光躲避
令我可感到你在喘气
没说出
亦领会谁在撩动你
抛开苦痛去解脱自己
让你那些冷却热情另有生机
离开我以后我会习惯自卑
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
接近你
oh-----
伴着但我在预期你会说舍弃
问事实怎躲避
在倒数将要每日想你
若这刻
若最后无力留下你
将消失勇气释放自己
就算某天我吻别人亦当亲你
离开我以后我会习惯自卑
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
离开我以后我会习惯自卑（接近你）
明天再偶遇我也不敢偷望你
离开我以后季节冷暖天气
我也置诸不理
愿名字也再不记起
离开我以后我会长留这地
晨早到午夜扑进漆黑想念你
离开我以后醉了会看到你
梦中方可永久地
接近你
oh-----
钢琴 : Randy Waldman
电吉他 : Michael Landau
OP : Music & Melody Publishing
贝斯 : Jimmy Johnson
混音师 : Mick Guzauski
混音室 : Record Plant (Los Angeles)/Conway Studios/Larrabee Sound Studios/Dragon Studios (Hong Kong)
录音工程师 : Alan Hirshberg/Robert Read
和声 :  Dorcas Kwok/金培达/郑中基
录音师 : Alan Hirshberg/Ronnie Rivera
鼓 : Carlos Vega
键盘 : David Garfield
SP : PolyGram Music, Hong Kong, Ltd.
录音室 : Record Plant (Los Angeles)/ Conway Studios/Ocean Way Recording/Capitol Studios/Platinum Studios (Hong Kong)/Avon Studios (Hong Kong)